PVD真空鍍膜是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發或離子鍍等技術,在基材上形成薄膜的一種表面處理過程。技術方面不斷的發展，PVD真空鍍膜不均

勻的問題在一定程度上得到了解決，但從一個大的范圍之內來看，任何的情況之下，我們在應用的過程中都會存在不均勻的情況，不均勻是絕對存在的，但是如果我們能夠更好的進行調整，當其相對處在一個穩定的階段，也不會影響到我們正常的使用。

過去幾年，有越來越多的PVD真空鍍膜設備不斷的出現在使用的過程中，不僅僅能夠降低不均勻的情況，而且在解決問題上也都會變得更加方便。現在很多的設備，相對來說是那種小規格，而且更加便捷的系統，使用的過程中能夠更好的去實現其中的效果，但是也會存在不均勻的一些問題，所以我們應該在解決問題的過程中有一些更正確的思考。

想要解決PVD真空鍍膜不均勻的情況，我們就應該考慮自己的預期是什么，并且能夠根據自身的預期選擇適合尺寸的機票，再加上物理性能一致的一些產品，然后再進行應用，那么最終的效果才會更好。不均勻的問題是絕對存在的，我們在解決的時候，只能夠相對來說達到一個更好的效果，但是卻不能夠絕對讓其均勻。