真空鍍膜設備中多用于封離后的電子器件、半導體器件等密封件的無損檢漏技術中。PVD真空鍍膜廠家介紹在檢漏的過程中，需求注意一些問題，才能把檢漏作業做好。

第一，要承認漏氣究竟的虛漏仍是實漏，因為工件資料加熱后都會在不同程度上發生氣體，有也許誤以為是從外部流進的氣體，這即是虛漏，要掃除這種狀況。

第二，測驗好真空室的氣體密封功能，確保氣密功能符合要求。

第三，查看漏孔的巨細，形狀、方位，漏氣的速度，制備出可處理方案并施行。

第四，斷定檢查儀器的最小可檢漏率和檢漏靈敏性，以最大規模的檢查出漏氣狀況，防止一些漏孔被疏忽，進步檢漏的準確性。

第五，掌握檢漏儀器的反應時刻和消除時刻，把時刻掌握好，確保檢漏儀器作業到位，時刻少了，檢漏作用必定差，時刻長了，糟蹋檢漏氣體和人工電費。

第六，還要防止漏孔阻塞，有時因為操作失誤，檢漏過程中，一些塵?；蛞后w等把漏孔阻塞了，以為在該方位沒有漏孔，但當這些阻塞物因為內外壓強區別進步或別的緣由使漏孔不堵了，那漏氣仍是存在的。

為真空鍍膜設備做好檢漏作業是很主要的，形成真空度降低的緣由多種多樣，咱們要逐個的處理這些緣由，安穩鍍膜的作用。