PVD真空鍍膜設備的注意事項：開機時要先檢查真空電鍍設備水路的暢通性，確定真空電鍍設備冷卻塔、真空泵是否正常工作，檢查真空電鍍設備氣路是否暢通，確定真空電鍍設備空壓機是否正常工作。真空電鍍設備所鍍制的氮化鋯是一種淺黃色的膜層，真空電鍍設備適用于某些氮化鈦不太適合涂覆的領域。真空電鍍設備具有高抗腐蝕性能，良好的光滑表面以及延展性。

   PVD真空鍍膜設備是一種銀灰色的膜層，真空電鍍設備具有良好的附著性以及良好的耐腐蝕性和耐氧化性。真空電鍍設備能夠增強它們的潤滑性和耐磨損性。目前真空電鍍設備常見的顏色主要有：深金黃色，淺金黃色，藍色等。

     基體資料的外表狀況是影響掩蓋才能的主要要素之一。實習標明，金屬在不一樣基體資料上電堆積時，同一鍍液的掩蓋才能不一樣也很大。如用鉻酸溶液鍍鉻，金屬鉻在銅、鎳、黃銅和鋼上堆積時，鍍液的掩蓋才能順次遞減。

    這是因為當金屬離子在不一樣的基體資料上復原堆積時，其過電位的數值有很大的不一樣。過電位較小的分出電位較正，即便在電流密度較低的部位也能到達其分出電位的數值，因而其掩蓋才能較好。基體資料的外表狀況對掩蓋才能的影響比較復雜。

     PVD真空鍍膜鍍層與基體之間的結合力、防腐性能和外觀質量的好壞，與零部件鍍前表面處理的優劣有著直接關系。附著于零件表面的油、銹、氧化皮等污物，就是妨礙電鍍液與金屬基體充分接觸的中間障礙物，在這種表面上不可能形成合格的電鍍層。當鍍件上附著極薄的甚至肉眼看不見的油膜和氧化膜時，雖然得到外觀正常、結晶細致的鍍層，但是結合強度大為降低。